FIB雙束電鏡是一種先進的顯微鏡技術，結合了離子束和電子束的特點和功能。它可以同時提供離子束刻蝕和電子顯微鏡成像功能，廣泛應用于納米加工、樣品制備和三維顯微鏡觀察等領域。
 

　　FIB雙束電鏡的原理基于兩個主要組件：離子槍和電子顯微鏡。
 

　　離子槍通過加速電場將離子束產生并聚焦到非常小的直徑，通常在幾奈米至數十納米的范圍內。離子束主要由高能離子組成，如加速電壓可達幾千伏特。離子束可以通過控制離子束的掃描和剝蝕模式對樣品進行刻蝕、切割和修復等加工操作。這對于納米器件的制造以及樣品的準備具有重要意義。
 

　　電子顯微鏡部分則使用電子束來進行成像。電子束經過磁透鏡系統的聚焦和激發后，在樣品表面或內部與樣品中的原子或分子相互作用。這些相互作用導致電子的散射、透射和反射等變化，從而形成顯微鏡圖像。電子顯微鏡可以提供高分辨率的顯微鏡圖像，并在納米尺度上顯示樣品的細節結構。
 

　　FIB雙束電鏡的工作方式通常涉及以下步驟：
 

　　1、樣品加載：將待觀察或加工的樣品放置在臺架上，并確保其穩定和準確定位。
 

　　2、刻蝕操作：通過控制離子束的掃描模式和能量，在樣品表面選擇性地剝蝕材料，以實現刻蝕、切割或修復等加工操作。離子束可以精確地去除或改變樣品的某些區域。
 

　　3、電子顯微鏡成像：在進行刻蝕操作的同時，使用電子束對樣品進行成像。電子束與樣品相互作用產生的信號會被檢測器捕捉，并轉換為圖像顯示。這些圖像可以提供有關樣品表面形貌、組織結構和元素分布等信息。
 

　　4、控制和調整：操作人員可以根據需要調整離子束和電子束的參數，如聚焦、加速電壓和掃描模式等，以優化成像或加工效果。
 

　　FIB雙束電鏡的優點在于它能夠在同一設備中結合離子束刻蝕和電子顯微鏡成像的功能。這使得樣品的準備和觀察變得更加高效和方便。同時，由于具有高分辨率的電子顯微鏡功能，對于納米尺度的觀察和操作非常有用，比傳統的光學顯微鏡和離子束刻蝕技術更加靈活和精確。